ASML回应荷兰半导体出口管制新规:并不适用于所有浸入式光刻设备
作者:chunzhi 发布时间:2023-03-09这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。
基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势,我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。
需要重点指出的是:新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管我们尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息,我们将其解读为我们在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”,即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。此外,我们要指出,先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。最后,ASML的长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势,而不是对具体地域的预期。
自2019年以来,ASML的EUV光刻系统已经受到限制。

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