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ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备

作者：chunzhi 发布时间:2023-03-09

ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。NC5赤兔网|www.cnnfootballclub.com

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